名稱

氧化擴散系統

放置地點

電機一館304室

負責教授

張忠誠 教授

儀器管理員

實驗室同學

儀器管理員
聯絡方式

分機6209或6223

儀器簡介

        半導體工業的製造方法是於矽半導體上製造具精密複雜的積體電路之電子元件，其中氧化及擴散製程為半導體工業發展不可或缺之技術，因此普遍為業界及學業廣泛使用。
        本系氧化擴散系統設備自九十四年建置後，主要應用於學校電子、光電、微機電系統技術等奈微米科技與生物科技相關研究、教學及服務。近年來為配合本校奈米科技學程的推動，因此也參與相關學程之教學 (94、95學年教學卓越計畫-課程名稱：半導體暨微機電製程實驗)。
        為配合校內儀器資源整合及貴重儀器中心成立，並加強對校內老師以及校外單位之服務，因此希望加入本校貴重儀器中心，由中心統一管理對校內外之服務，提升本套設備之貢獻度。 

服務項目

1. 乾氧(Dry-Oxide)
2. 濕氧(Wet-Oxide)
3. 磷預沈積(POCL3Pre-Deposition)
4. 磷驅入(POCL3 Drive-In)
5. 硼擴散(Boron Diffusion) 

開放預約時間

日 : 00:00 ~ 23:50  
一 : 00:00 ~ 23:50  
二 : 00:00 ~ 23:50  
三 : 00:00 ~ 23:50  
四 : 00:00 ~ 23:50  
五 : 00:00 ~ 23:50  
六 : 00:00 ~ 23:50  
 

開放使用時間

二 : 09:00 ~ 13:00  
三 : 09:00 ~ 13:00  14:00 ~ 18:00  
四 : 09:00 ~ 13:00  14:00 ~ 18:00  
五 : 09:00 ~ 13:00