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·         奈微米機電系統共用實驗室                                                                              回儀器列表

儀器負責教授:機械系 吳志偉、黃士豪 老師

聯絡分機: 3253

主要儀器:

1.   雙面對準曝光機

2.   反應離子蝕刻機

3.   光阻塗佈機

4.   光學式表面輪廓儀

5.   電鍍系統

6.   熱蒸鍍機

7.   濕式蝕刻系統

收費標準:

服務項目

工作內容

收費標準

濕蝕刻製程

以化學藥品蝕刻玻璃、矽晶圓、金屬等材料

(1) 校內委託操作:0.3元/分 (2) 校內自行操作:0.2元/分 (3) 校外委託操作:0.4元/分

乾蝕刻製程

蝕刻矽,二氧化矽,氮化矽等材料

(1) 校內委託操作:開機費375元+15元/分 (2) 校內自行操作:開機費250元+10元/分 (3) 校外委託操作:開機費500元+20元/分

微影製程

半導體元件積體電路或奈微米機電元件之對準曝光

(1) 校內委託操作:開機費300元+ 6元/分 (2) 校內自行操作:開機費200元+ 4元/分 (3) 校外委託操作:開機費400元+8元/分

量測製程

測量奈米級結構之表面輪廓

(1) 校內委託操作:開機費45元/20分+3元/分
(2)
校內自行操作:開機費30元/20分+2元/分
(3)
校外委託操作:開機費60元/20分+4元/分

電鍍製程

製作各式金屬結構

(1) 校內委託操作:0.3元/分
(2)
校內自行操作:0.2元/分
(3)
校外委託操作:0.4元/分

薄膜製程

製作各式奈微米金屬薄膜

(1) 校內委託操作:開機費375元/90分+3元/分
(2)
校內自行操作:開機費250元/90分+2元/分
(3)
校外委託操作:開機費500元/90分+4元/分

 

儀器介紹:

1. 雙面對準曝光機

名稱

雙面對準曝光機

放置地點

奈微米機電系統共用實驗室機械A館 406 R

負責教授

吳志偉、黃士豪老師

儀器管理員

同學

儀器管理員
聯絡方式

校內分機3253

儀器簡介

用於奈微米機電技術之微影製程,可製作微米級結構,解析能力約5um 

服務項目

半導體元件積體電路或奈微米機電元件之對準曝光 

開放預約時間

  電洽

開放使用時間

  電洽

2. 反應離子蝕刻機

名稱

反應離子蝕刻機

放置地點

奈微米機電系統共用實驗室機械A館 406 R

負責教授

吳志偉、黃士豪老師

儀器管理員

同學

儀器管理員
聯絡方式

校內分機3253

儀器簡介

用於奈微米機電技術之乾蝕刻製程,可蝕刻矽,二氧化矽,氮化矽等材料,蝕刻深度可達30um

服務項目

半導體元件積體電路或奈微米機電元件之蝕刻製程 

開放預約時間

 電洽

開放使用時間

 電洽

3.光阻塗佈機

名稱

光阻塗佈機

放置地點

奈微米機電系統共用實驗室機械A館 406 R

負責教授

吳志偉、黃士豪老師

儀器管理員

同學

儀器管理員
聯絡方式

校內分機3253

儀器簡介

用於奈微米機電技術之微影製程,可旋塗各式液態材料,最高轉速5000rpm

服務項目

1. 半導體元件積體電路或奈微米機電元件之光阻塗佈製程
2. 
各種液態材料旋轉塗佈 

開放預約時間

 電洽

開放使用時間

 電洽

4. 光學式表面輪廓儀

名稱

光學式表面輪廓儀

放置地點

奈微米機電系統共用實驗室機械A館 406 R

負責教授

吳志偉、黃士豪老師

儀器管理員

同學

儀器管理員
聯絡方式

校內分機3253

儀器簡介

用於奈微米機電技術之量測製程,可測量奈米級結構之表面輪廓,解析能力可達1nm

服務項目

半導體元件積體電路或奈微米機電元件之量測製程

開放預約時間

 電洽

開放使用時間

 電洽

5. 電鍍系統

名稱

電鍍系統

放置地點

奈微米機電系統共用實驗室機械A館 406 R

負責教授

吳志偉、黃士豪老師

儀器管理員

同學

儀器管理員
聯絡方式

校內分機3253

儀器簡介

用於奈微米機電系統之電鍍製程,可製作各種金屬元件。

服務項目

配合電鍍液可製作各式金屬結構

開放預約時間

 電洽

開放使用時間

 電洽

6. 熱蒸鍍機

名稱

熱蒸鍍機

放置地點

奈微米機電系統共用實驗室機械A館 406 R

負責教授

吳志偉、黃士豪老師

儀器管理員

同學

儀器管理員
聯絡方式

校內分機3253

儀器簡介

用於奈微米機電技術之薄膜製程,可放置四片四吋晶圓並同時蒸鍍三種材料

服務項目

半導體元件積體電路或奈微米機電元件之薄膜製程 

開放預約時間

 電洽

開放使用時間

 電洽

7. 濕式蝕刻系統

(圖: 略)

名稱

濕式蝕刻系統

放置地點

奈微米機電系統共用實驗室機械A館 406 R

負責教授

吳志偉、黃士豪老師

儀器管理員

同學

儀器管理員
聯絡方式

校內分機3253

儀器簡介

用於奈微米機電系統之蝕刻製程,可蝕刻各種材料。

服務項目

以化學藥品蝕刻玻璃,矽晶圓,金屬,高分子等材料

開放預約時間

  電洽

開放使用時間

  電洽

 

 

 

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