聯絡分機:
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服務項目 |
工作內容 |
收費標準 |
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濕蝕刻製程
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以化學藥品蝕刻玻璃、矽晶圓、金屬等材料
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(1) 校內委託操作：0.3元/分
(2) 校內自行操作：0.2元/分
(3) 校外委託操作：0.4元/分
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乾蝕刻製程
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蝕刻矽，二氧化矽，氮化矽等材料
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(1) 校內委託操作：開機費375元+15元/分
(2) 校內自行操作：開機費250元+10元/分
(3) 校外委託操作：開機費500元+20元/分
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微影製程
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半導體元件積體電路或奈微米機電元件之對準曝光
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(1) 校內委託操作：開機費300元+
6元/分
(2) 校內自行操作：開機費200元+
4元/分
(3) 校外委託操作：開機費400元+8元/分
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量測製程
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測量奈米級結構之表面輪廓
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(1) 校內委託操作：開機費45元/20分+3元/分 |
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電鍍製程
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製作各式金屬結構
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(1) 校內委託操作：0.3元/分 |
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薄膜製程
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製作各式奈微米金屬薄膜
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(1) 校內委託操作：開機費375元/90分+3元/分 |
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名稱 |
雙面對準曝光機 |
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放置地點 |
奈微米機電系統共用實驗室機械A館
406 R |
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負責教授 |
吳志偉、黃士豪老師 |
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儀器管理員 |
同學 |
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儀器管理員 |
校內分機3253 |
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儀器簡介 |
用於奈微米機電技術之微影製程，可製作微米級結構，解析能力約5um |
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服務項目 |
半導體元件積體電路或奈微米機電元件之對準曝光 |
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開放預約時間 |
電洽 |
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開放使用時間 |
電洽 |
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名稱 |
反應離子蝕刻機 |
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放置地點 |
奈微米機電系統共用實驗室機械A館
406 R |
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負責教授 |
吳志偉、黃士豪老師 |
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儀器管理員 |
同學 |
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儀器管理員 |
校內分機3253 |
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儀器簡介 |
用於奈微米機電技術之乾蝕刻製程，可蝕刻矽，二氧化矽，氮化矽等材料，蝕刻深度可達30um |
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服務項目 |
半導體元件積體電路或奈微米機電元件之蝕刻製程 |
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開放預約時間 |
電洽 |
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開放使用時間 |
電洽 |
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名稱 |
光阻塗佈機 |
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放置地點 |
奈微米機電系統共用實驗室機械A館
406 R |
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負責教授 |
吳志偉、黃士豪老師 |
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儀器管理員 |
同學 |
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儀器管理員 |
校內分機3253 |
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儀器簡介 |
用於奈微米機電技術之微影製程，可旋塗各式液態材料，最高轉速5000rpm |
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服務項目 |
1. 半導體元件積體電路或奈微米機電元件之光阻塗佈製程 |
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開放預約時間 |
電洽 |
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開放使用時間 |
電洽 |
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名稱 |
光學式表面輪廓儀 |
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放置地點 |
奈微米機電系統共用實驗室機械A館
406 R |
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負責教授 |
吳志偉、黃士豪老師 |
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儀器管理員 |
同學 |
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儀器管理員 |
校內分機3253 |
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儀器簡介 |
用於奈微米機電技術之量測製程，可測量奈米級結構之表面輪廓，解析能力可達1nm |
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服務項目 |
半導體元件積體電路或奈微米機電元件之量測製程 |
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開放預約時間 |
電洽 |
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開放使用時間 |
電洽 |
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名稱 |
電鍍系統 |
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放置地點 |
奈微米機電系統共用實驗室機械A館
406 R |
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負責教授 |
吳志偉、黃士豪老師 |
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儀器管理員 |
同學 |
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儀器管理員 |
校內分機3253 |
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儀器簡介 |
用於奈微米機電系統之電鍍製程，可製作各種金屬元件。 |
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服務項目 |
配合電鍍液可製作各式金屬結構
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開放預約時間 |
電洽 |
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開放使用時間 |
電洽 |
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名稱 |
熱蒸鍍機 |
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放置地點 |
奈微米機電系統共用實驗室機械A館
406 R |
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負責教授 |
吳志偉、黃士豪老師 |
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儀器管理員 |
同學 |
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儀器管理員 |
校內分機3253 |
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儀器簡介 |
用於奈微米機電技術之薄膜製程，可放置四片四吋晶圓並同時蒸鍍三種材料 |
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服務項目 |
半導體元件積體電路或奈微米機電元件之薄膜製程 |
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開放預約時間 |
電洽 |
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開放使用時間 |
電洽 |
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(圖:
略) |
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名稱 |
濕式蝕刻系統 |
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放置地點 |
奈微米機電系統共用實驗室機械A館
406 R |
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負責教授 |
吳志偉、黃士豪老師 |
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儀器管理員 |
同學 |
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儀器管理員 |
校內分機3253 |
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儀器簡介 |
用於奈微米機電系統之蝕刻製程，可蝕刻各種材料。
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服務項目 |
以化學藥品蝕刻玻璃，矽晶圓，金屬，高分子等材料 |
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開放預約時間 |
電洽 |
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開放使用時間 |
電洽 |
